陶瓷拋光盤的應(yīng)用說明

    1, 簡介

   陶瓷拋光盤是采用氧化鋁陶瓷材料作為基面,金屬骨架作為基體的拋光盤。主要用于陶瓷材料、藍寶石材料、光學(xué)玻璃等材料的拋光。

   2，拋光機理

  陶瓷拋光盤的盤面材料屬于超硬材料,拋光過程是硬拋過程。拋光的機理理論是：在壓力和轉(zhuǎn)速的作用下，研磨液在拋光盤面與工件之間形成懸浮的水膜。即在這層水膜的作用下對工件進行研拋，根據(jù)不同粒度的拋光液得到相應(yīng)的表面光潔度。

     3，技術(shù)參數(shù)

    拋光盤面光潔度：    Ra0.2um

    盤面硬度：         莫氏9.0

    平面度：           ＜0.01mm

   4，應(yīng)用范圍

  陶瓷拋光盤可以加工的材料：氧化鋁陶瓷、氧化鋯陶瓷、碳化硅陶瓷、光學(xué)玻璃、藍寶石晶片等材料的拋光加工。

   5，產(chǎn)品規(guī)格

     ￠380×￠140×40          ￠460×￠150×50

     ￠610×￠160×60          ￠910×￠300×60